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Eneko Llanos acude al Ironman de Hawai "motivado y con ganas de estar peleando por los primeros puestos"

28/09/2010 15:01 0 Comentarios Lectura: ( palabras)

El triatleta español Eneko Llanos ha asegurado este martes que acude a su quinta participación en el Ironman de Hawai, la más dura y prestigiosa prueba internacional en esta especialidad deportiva, "motivado y con ganas de estar peleando por los primeros puestos".

Llanos compareció ante los medios de comunicación en Vitoria en compañía de su entrenador, Iñigo Mujika, en víspera de emprender viaje a las islas del Pacífico, una cita a la que llega "muy bien de fuerzas", aseguró el alavés.

"Me estoy encontrando muy bien entrenando, me he recuperado muy bien de la temporada que llevo, en la que he competido bastante y llego motivado y con ganas de estar en Hawai peleando por los primeros puestos", afirmó.

No en vano, su impresionante palmarés le convierte en uno de los favoritos a estar en el podium final: en las ocho competiciones en las que ha participado a lo largo de la presente temporada, ha logrado cinco primeros puestos, un segundo y dos terceros. Su último éxito fue el primer puesto logrado el pasado sábado en el Ican Triathlon de Mallorca.

El mejor resultado de Eneko Llanos en el Ironman de Hawai, hasta la fecha, ha sido el segundo puesto conseguido en 2008, por detrás del australiano Craig Alexander, vencedor de las dos últimas ediciones. Pero, de cara a la edición de este año, "la lista de favoritos es más extensa que nunca". "Este año es el que más nivel hay", reconoció el gasteiztarra.

"Sin duda, el vencedor de las dos últimas ediciones parte con un poco de más de favoritismo, pero también hay gente que ha hecho carreras espectacular este año: el danés Rasmussen, el alemán Andreas Raelert, el belga Marino Vanhoenacker, un par de americanos como Potts, el australiano McCormack, el neozelandés Bozzone... Los tres o cuatro últimos años ha habido mucho nivel pero ahora cada vez va a más y la lista de favoritos es más amplia", explicó para concluir.


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